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Wteya 威特雅環境
電子半導體廢水
電子半導體生產工藝復雜，工藝步驟有很多，同時使用各種化學試劑和特殊氣體。主要生產工藝包括硅片清洗、氧化、擴散、化學氣相沉積、光刻、脫膠、干刻蝕、濕刻蝕、離子注入、金屬化鍍膜、化學機械拋光等。
工藝廢水主要為酸堿廢水、含氟廢水、有機廢水、研磨廢水、氨氮廢水。主要污染物為pH值、氟離子、有機物、懸浮物、氨氮、溶解性固體、重金屬等。因其污染成分復雜、濃度高，往往無法達到納網排放標準。
Harm of electronic semiconductor wastewater
電子半導體廢水的危害
電子廢水的成分不一樣，所含污染物的類型也有差別，如有鉻、銅、鎳、鎘、鋅、鉛、汞等重金屬離子離離子、氰化物、一些酸性物質和堿性物質。廢水中的重金屬離子具備毒性長，不可以生物降解等特性，并且可以在生物中富集，使生物功能紊亂，對生態環境和人體健康造成嚴重危害。
Integrated solution for electronic semiconductor wastewater
電子半導體廢水整體解決方案
針對電子半導體廢水的含鹽分高廢水毒性高等特點，威特雅作為專業水處理設備廠家，提供預處理、氨回收、DTRO、MBR蒸發、除鹽（電滲析系統、RO系統）等多種廢水處理工藝技術方案。根據每個生產企業的實際情況和當地工業廢水的排放標準，定制針對性電子半導體廢水處理系統。幫助客戶實現電子半導體廢水達標處理，不僅滿足國家污水處理的標準，而且將電子半導體廢水深度處理后回用于生產，從而實現電子半導體廢水零排放，提供資源化利用！
Treatment technology of electronic semiconductor wastewater
電子半導體廢水處理技術
SWRO 反滲透技術
SWRO reverse osmosis technology
RO反滲透膜技術
RO reverse osmosis membrane technology
DTRO碟管膜技術
DTRO disc tube membrane technology
MVR蒸發技術
MVR evaporation technology
UF超濾膜技術
UF ultrafiltration membrane technology
Project case
項目案例
與眾多優質客戶建立長期合作關系
合作客戶
